产品特点
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高效去污
快速去除晶圆表面颗粒、金属离子及有机残留物,确保高洁净度。
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材料安全
对硅、金属及光刻胶等基底材料腐蚀速率极低,保护微细结构。
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环保配方
低毒、可生物降解,不含受控卤素,减少废水处理负担。
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精密适配
低表面张力,可渗透亚微米缝隙,无残留且兼容先进制程。
产品参数
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产品名称 半导体清洗剂 型号 YCC02001L 清洗时间 5–30分钟 漂洗次数 ≥3次 温度范围 20-80℃ 粘度变化率 ≤5%
应用领域 晶圆制造、集成电路封装
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